http___www.irb.hr_Gospodarstvo_Usluge-i-ekspertize_Cms-18-sustav-za-pripravljanje-tankih-filmova-postupkom-magnetronskog-rasprasenja_1.xml
1.1 2.1 3.1 4.1 5.1 6.1 7.1 7.2 7.3 7.4 7.5 7.6 7.7 8.1 9.1 10.1
Cms-18 magnetron sputtering system for thin film preparation Market opportunity CMS-18 thin film deposition system offers wide possibilities for preparation of known and new materials and structures in the form of thin films. Four magnetron sources allow preparation of various materials (metal, semiconductor, dielectric, metastable etc.) in a wide range of compositions and structures using deposition, codeposition, sequential deposition and reactive deposition processes. Materials prepared on CMS-18 can be used in producing hi-tech products, in particular for medical implants and equipment, platinum resistant thermometers, tools with improved mechanical features and tools for working in corrosive mediums. Technical description Process chamber (SS 316) 45 cm dia, 50 cm height, with base pressure of about 10-8 mbar. Loadlock chamber for substrate manipulation without breaking vacuum in the main chamber. Four TORUS®3 magnetrons, powered by four separate power supplies - two DC magnetrons (0,5 KW DC & 1,0 KW DC) + 2 RF magnetrons (2 x 600 W RF). One high-strength magnet assembly mounted for sputtering of ferromagnetic materials. Substrate holder accommodates up to 6" diameter wafers. Features: adjustable target-substrate distance, rotation (up to 40 rpm), heating up to 800°C or cooling at LN2 temperaturein situ, DC or RF bias. System can also work with two additional gases for reactive deposition - chemical synthesis during deposition. Deposition processes: single source deposition (simple or composite target), codeposition from two or more sources, sequential deposition by shutter operation and reactive deposition with two additional gases. Service offer Rudjer innovations Ltd offers the preparation of thin films and related expertise of Rudjer Boskovic Institute scientists to all companies with commercial interest.
1.1 2.1 3.1 4.1 5.1 6.1 7.1 7.2 7.3 7.4 7.5 7.6 7.7 7.8 8.1 9.1 10.1
Cms-18 sustav za pripravljanje tankih filmova postupkom magnetronskog rasprašenja Tržišna prilika Uređaj pruža široke mogućnosti za pripravljanje poznatih ili novih materijala i struktura u obliku tankih filmova. Sa svoja četiri magnetronska izvora uređaj omogućava pripravljanje različitih (metalnih, poluvodičkih, dielektričnih, metastabilnih itd.) materijala u širokom rasponu sastava i struktura postupcima depozicije, kodepozicije, sekvencijalne depozicije i reaktivne depozicije na različite podloge. Materijali pripravljeni na CMS-18 mogu biti izuzetno zanimljivi proizvođačima tehnološki naprednih proizvoda a posebno proizvođačima medicinskih implantata i opreme, platinskih otpornih termometara, alata poboljšanih mehaničkih osobina i alata za rad u korozivnim medijima. Tehnički opis uređaja Komora za depoziciju (SS 316) promjera 45 cm, visine 50 cm. Rezidualni tlak 10-8 mbar. Pretkomora za manipuliranje podlogama bez narušavanja vakuuma u procesnoj komori. Četiri magnetrona TORUS®3, svaki sa svojim napajanjem - 2 istosmjerna magnetrona (0,5 KW DC & 1,0 KW DC) + 2 radiofrekventna magnetrona (2 x 600 W RF). Jedan magnetron sa ugrađenom posebnom konfiguracijom magneta za rasprašenje feromagnetnih materijala. Nosač podloga za depoziciju veličine do 150 mm promjera, promjenjive udaljenosti od magnetrona. Omogućava rotaciju podloge (do 40 rpm), grijanje do 800°C ili hlađenje na LN2 temperaturu in situ, te DC ili RF električnu polarizaciju u odnosu na plazmu izboja. Uređaj može raditi uz nezavisno uvođenje dva reaktivna plina za reaktivnu depoziciju. Postupci pripravljanja: jednostavna depozicija iz jednog izvora (sa jednostavnom ili složenom metom), kodepozicija iz dva ili više izvora, sekvencijalna depozicija slojevitih struktura (korištenjem zaslona), i reaktivna depozicija. Ponuda usluge Tvrtke zainteresirane za pripravu poznatih i novih materijala u obliku tankih filmova te i znanje i iskustvo znanstvenika neka se slobodno obrate Institutu „Ruđer Bošković“.