بررسی محلول پاشی اسید بریک و کلرید کلسیم بر رشد رویشی و زایشی و انبارمانی توت فرنگی رقم «سلوا»

برای بررسی اثر محلول پاشی اسیدبریک و کلرید کلسیم بر رشد رویشی, زایشی و انبارمانی توت فرنگی رقم سلوا آزمایشی به صورت فاکتوریل در قالب طرح پایه بلوک های کامل تصادفی در 3 تکرار انجام شد که فاکتور اول آن شامل مصرف اسید بریک در چهار سطح 0, 1, 1.5 و 2 پی پی ام, فاکتور دوم کلرید کلسیم در سه سطح 0, 1000 و 1500 پی پی ام بوده در هر کرت 24 بوته و در مجموع از 864 بوته استفاده شد. نتایج نشان داد که: سطح کلسیم (1000 و 1500 پی پی ام) بیشترین تاثیر را بر میزان پکتین و مواد جامد محلول داشته و سطح اسید بریک (صفر و 1 پی پی ام) بیشترین تاثیر را بر میزان پکتین داشته است بین سطح های مختلف اسید بریک سطح 2 پی پی ام بیشترین تاثیر را بر میزان مواد جامد محلول نشان داد. بین 3 سطح کلرید کلسیم در سطح 1 درصد تفاوت معنی دار مشاهده شد, به طوری که سطح 1500 پی پی ام آن مانند اسیدبریک یعنی سطح 1.5 پی پی ام بیشترین تاثیر را بر ارتفاع گیاه داشته اند. در روز سوم پس از برداشت سطح 9 (کلرید کلسیم 1500 پی پی ام و اسید بریک صفر) و روز ششم پس از برداشت سطح 5 (کلرید کلسیم 1000 پی پی ام و اسید بریک صفر) بیشترین تاثیر را بر میزان انبارمانی داشتند.