جایابی بهینه منابع توان راکتیو با هدف بهبود توام پروفیل و پایداری ولتاژ با استفاده از الگوریتم ژنتیک

امروزه سیستم های قدرت از پیچیدگی روز افزونی برخوردار شده اند و در این میان پدیده پایداری ولتاژ با پاسخ زمانی نسبتا کند و عواقب بسیار خطرناک آن, محققان و شرکت های بزرگ تولید کننده و پشتیبان را بر آن داشته که آن را بطور جدی مورد بررسی قرار دهند. یکی از روشهای بهبود پدیده فوق استفاده از منابع قدرت راکتیو می باشد که علاوه بر این که برپایداری ولتاژ اثر می گذارند مستقیما پروفیل ولتاژ را نیز تحت تاثیر قرار می دهند. در این مقاله مسئله جایابی بهینه منابع قدرت راکتیو با هدف بهبود توام پروفیل و پایداری ولتاژ و حل آن با استفاده از الگوریتم ژنتیک ارائه می گردد. از طرفی با توجه به تاثیر مهم محل های نصب ترانسفورماتورهای مجهز به تغییر دهنده تپ زیربار بر پایداری و پروفیل ولتاژ, در مدل ارائه شده, جایابی بهینه این تجهیزات نیز مورد توجه قرار گرفته است.