글로벌 화학소재 기업 듀폰(DuPont)이 반도체 핵심 소재인 ‘극자외선(EUV)용 포토레지스트’ 생산 공장을 국내에 건설한다. 이르면 내년부터 국내 조달이 가능해질 전망이다. 일본 의존도가 높은 소재·부품·장비 조달 다변화에 한발 다가섰다는 평가가 나온다. EUV용 포토레지스트는 지난해 일본이 한국으로의 수출을 통제한 3대 품목 중 하나다. EUV 포토레지스트는 반도체 초미세 공정에 쓰이는 핵심 소재다. 반도체 기판(웨이퍼) 위에 패턴을 형성하는 공정에 사용되는 재료로 파장이 짧아 미세화 공정에 적합하다.
글로벌 화학소재 기업 듀폰(DuPont)이 반도체 핵심 소재인 ‘극자외선(EUV)용 포토레지스트’ 생산 공장을 국내에 건설한다.
  EUV용 포토레지스트는 지난해 일본이 한국으로의 수출을 통제한 3대 품목 중 하나다.
  이르면 내년부터 국내 조달이 가능해질 전망이다.
  일본 의존도가 높은 소재·부품·장비 조달 다변화에 한발 다가섰다는 평가가 나온다.
  328억원 투자 신고서 KOTRA에 제출9일 산업통상자원부에 따르면 듀폰은 EUV용 포토레지스트 생산 공장을 국내에 구축하기 위해 대한무역투자진흥공사(KOTRA)에 투자 신고서를 제출했다.
  8일(이하 현지시간) 성윤모 산업부 장관이 미국에서 존 켐프 듀폰 사장을 직접 만난 자리에서다.
  투자 규모는 2021년까지 총 2800만 달러(약 328억원)다.
  생산 공장은 천안에 세워질 예정이다.
  EUV 포토레지스트는 반도체 초미세 공정에 쓰이는 핵심 소재다.
  반도체 기판(웨이퍼) 위에 패턴을 형성하는 공정에 사용되는 재료로 파장이 짧아 미세화 공정에 적합하다.
  JSRㆍ신에쓰ㆍ도쿄오카공업(TOK) 등 일본 기업이 세계시장의 90% 이상을 점유하고 있다.
  그만큼 일본에 대한 의존도가 높았다.
  국내에서도 불화크립톤(KrF), 불화아르곤(ArF) 등 다른 포토레지스트는 일부 생산이 가능하다.
  하지만 파장이 각각 248나노미터(㎚)와 198㎚로 길어 EUV용(13.
 5㎚)보다 미세공정에 적합하지 못하다.
  정부는 지난해 7월 일본의 수출규제 이후 반도체 소재ㆍ부품ㆍ장비 공급을 안정화하기 위해 듀폰과 접촉해왔다고 밝혔다.
   소·부·장 국산화율 높인다…듀폰은 신(新)시장 개척국내 산업에는 긍정적인 효과가 기대된다.
  김양팽 산업연구원 전문위원은 “반도체 소재 공급이 안정돼 일본 수출규제와 같은 상황에 대응할 수 있게 된 것”이라며 “국내에서 조달하게 되면 수입할 때보다 비용 측면에서 유리해 현재 25~30%인 반도체 소재 국산화율도 높일 수 있을 것으로 본다”고 설명했다.
  듀폰으로서는 한국의 소재·부품·장비 자립 움직임을 기회로 새로운 시장에 진입할 수 있게 됐다.
  존 켐프 사장은 투자신고서를 제출하는 자리에서 “앞으로 한국 내 주요 수요업체와 제품 실증 테스트를 진행하는 등 긴밀히 협력해 나갈 계획”이라고 말했다.
  강감찬 산업부 반도체디스플레이과장은 “최근 삼성전자가 기존 5나노 반도체보다 미세한 3나노 반도체 공정기술을 확보하는 등 EUV 포토레지스트의 중요성이 점점 커지고 있다”며 “삼성전자·SK하이닉스·동부하이텍 등 국내 기업이 수혜자가 될 것으로 보인다”고 말했다.
 