특허법 제2차 개정은 지적재산권에 대한 법적/행정적 보호 강화, 절차간소화, 법 집행 개선 등의 효과가 있었는 바, 중국의 특허출원이 이 개정이 일어난 2000년도부터 급속히 증가하기 시작한 것으로 볼때 중국의 혁신역량 강화에 긍정적 영향을 했다고 볼 수 있다.
특허법 제2차 개정의 주요내용을 보면, 특허 업무를 개선하여 과학기술의 진보와 창신을 촉진하고, 발명을 장려하는 조치를 더욱 구체화하고, 특허보호제도를 TRIPs협정과 호흡을 맞추게 하였다. 또한 특허심사절차를 간략히 하였고, 법 집행 역량을 강화함으로써 특허제도를 더욱 공고히 할 수 있는 기반을 마련하였다.44) 2차 개정은 특허권자의 권리보호를 위한 제도정비에 주안점이 맞추어졌으며, 이 개정을 통해 중국 특유의 양축보호제도, 즉 사법보호와 행정보호의 두 보호제도를 더욱 발전시킬 수 있게 되었다. 중국의 특허출원이 급속히 증가하기 시작한 것이 특허법의 2차 개정이 일어난 2000년도부터라는 점을 볼 때, 중국의 특허법규 정비와 개정은 중국의 혁신역량 강화에 긍정적인 영향을 했다고 판단해 볼 수 있다. 전반적으로 2001년 개정은 (1) 지적재산권에 대한 법적, 행정적 보호의 강화, (2) 특허 출원 절차의 간소화, (3) 법 집행의 개선 등의 효과가 있었던 것으로 평가되고 있다.