한·중 양국간의 지재협력의 필요한  전기·전자 산업에 있어 한국의 특허는 경쟁우위에 있으나 질적인 측면의 차이는 크지 않다. 한중 지식재산 협력의 정책적 방향성을 기술개발에서 상용화까지 지원체계 확립과 한중 중소기업이 협력해 제품을 개발할 인프라 마련으로 봤다.
마지막으로 제4장에서는 한국과 중국의 특허통계자료의 분석을 통해 양국간의 특허경쟁력을 비교·평가하였다. 한·중 양국간의 지재협력의 필요성이 가장 높은 전기·전자 산업에 있어서 한국의 특허는 어느 정도 경쟁우위에 있으나 질적인 측면에서의 차이는 크게 나타나지 않는 것으로 분석된다. 해당 산업의 경우 첨단기술의 의존도가 높고 양국 간의 경쟁이 더욱 치열해질 것으로 전망되고 있어, 한·중 양국간은 기술개발(또는 연구개발) 및 지식재산 협력을 강화함으로써 우수한 지식재산권의 창출을 유도하는 것은 물론 활용이 촉진될 수 있도록 하는 제도적 인프라가 마련되어야 하겠다. 이에 제5장에 해당하는 결론에서는 한중 지식재산 협력의 정책적 방향성을 다음과 같이 도출하였다. (1) 기술개발에서 상용화까지의 종합적인 지원체계의 확립(예: 특정 산업별 전문화된 관계법령의 법규범 제정), (2) 한중 중소기업들이 서로 협력하여 제품을 개발할 수 있는 인프라 마련(예: 글로벌 센터의 설립), (3) 기업대상의 인식제고이다.