일본 후쿠시마 원전에서 대규모의 방사성 물질이 누출된 후 피해 지역의 복구가 미진해 한국에서도 우려가 큰 가운데 특허청은 방사성 물질 제거 기술 특허출원 상황을 조사했다.
안녕하십니까? 특허청 환경에너지심사과장 김지수입니다. 오늘 브리핑드릴 내용은 방사성 물질 제거 기술 특허출원 현황입니다. 3월 11일은 일본에 대지진이 발생하여 후쿠시마 원전이 정지한 후 대규모의 방사성 물질이 누출된 지 1년이 되는 날입니다. 1년이 지난 지금도 후쿠시마 피해 지역의 복구가 미진하여 우리나라에서도 우려의 목소리가 큰 가운데, 특허청은 방사능에 오염된 시설, 토양 등으로부터 방사성 물질을 제거하는 기술에 관한 특허출원 현황을 조사하였습니다. 특허청 자료 결과, 동 기술에 관해 최근 10년 간 170건의 특허가 출원되었는데, 2002년~2005년 사이에는 매년 9건 정도가 출원되었으나 2006년~2011년 사이에는 매년 23건 정도가 출원되어 2006년 이후특허출원 건수가 증가하고 있는 것으로 나타났습니다. 이를 기술 분야별로 나누어 보면, 기계적 방법(82건, 48%), 화학적 방법(66건, 39%), 전기화학적 방법(22건, 13%) 순으로 출원 건수가 많았습니다. 또한 이를 출원인별로 나누어 보면, 대부분의 출원인이 내국인(145건, 85%)인 것으로 나타나 우리나라가 상당한 기술력을 축적하고 있는 것으로 평가되었습니다. 기계적 방법은 절삭공구를 이용하여 오염된 시설, 토양의 표면을 직접 깎아내는 것이고, 화학적 방법은 오염된 시설, 토양의 표면에 시약을 접촉시켜 화학반응을 일으켜 오염물질을 분리하는 것이며, 전기화학적 방법은 오염된 토양 등에 전극을 삽입하고 전류를 흘려 오염 물질을 분리하는 것입니다.