반면에 선택가열 방식은 이런 기판 위에 있는 나노박막만 선택적으로 가열할 수 있기 때문에 나노미터 수준의 두께만 가열하면 됩니다. 그래서 이렇게 짧은 시간 동안 가열하게 되면 기판의 온도상승은 거의 없이 거의 상온으로 유지할 수가 있습니다.
반면에 선택가열 방식은 이런 기판 위에 있는 나노박막만 선택적으로 가열할 수 있기 때문에 나노미터 수준의 두께만 가열하면 됩니다. 그래서 이렇게 짧은 시간 동안 가열하게 되면 기판의 온도상승은 거의 없이 거의 상온으로 유지할 수가 있습니다. 그래서 컴퓨터 시뮬레이션을 통해서도 확인해 본 결과 이렇게 70마이크로, 그러니까 0.07㎜ 얇은 기판에 있는 나노박막의 경우에도 나노박막은 1,000℃ 정도로 유지시키면서도 기판은 거의 상온으로 유지시킬 수 있는 그런 기술이 되겠습니다. 기존에 저희가 현재 디스플레이나 반도체 소자들에 사용하는 박막 소재들은 굉장히 지금 현재 기술에서는 굉장히 광범위하게 많이 사용되고 있는데요. 그런데 이런 박막들을 만들 때는 기본적으로 보통 증착이라는 공정을 거치게 됩니다. 증착 공정은 어떤 특정 기판위에 우리가 원하는 소재의 결정들을 이렇게 만들어서 발생시켜서 이 결정들을 성장시키고 그래서 결과적으로 완전히 막힌 막을 만들어내게 되는데요. 이때 만들어진 이 막은 소재의 어떤 특정 나노결정들의 집합으로 만들어져 있습니다. 그리고 이 나노결정과 나노결정 사이에서는 결정성이 좋지 않은 불완전한 결정성을 가지는 면들이 존재하게 되는데요. 이런 특징 때문에 성능이 원래 제 소재의 성능을 나타내지 못하고 성능이 굉장히 낮습니다. 그런데 이런 소재들은 열처리를 하게 되면 결국 성능을 높일 수가 있는데, 최근에는 이런 유연한 기판이라든지 투명한 기판이라든지 이런 것들 사용이 늘면서 가열할 수 있는 온도가 상당히 한계가 많이 지어지고 있고, 만일에 이런 소재에 대해서 저희 마이크로파 유도가열 기술을 사용해서 선택적으로 고온 가열을 할 수 있다면 마이크로미터 수준의 거대한 결정구조를 만들어낼 수 있고요. 그래서 이로 인해서 고성능의 박막을 제조할 수 있게 됩니다.