나노임프린트 기술의 특허출원이 지속적으로 증가하고 있으며 해당 기술의 국가별 출원비율에서 우리나라는 절반 이상인 52%를 차지하고 있다. 
특허청 반도체심사과장 권순근입니다. 말씀드릴 내용은 반도체 생산 공정에 있어서 나노임프린트 관련 국내 출원동향입니다. 붕어빵을 만들 듯이 패턴이 각인된 스탬프를 고분자 용액에 찍어 인쇄하고 구워서 미세회로 패턴을 형성하는 나노임프린트(nano-imprint) 기술이 주목받고 있습니다. 이제까지 반도체 미세회로 패턴 형성에서 노광공정의 핵심인 정밀 광학 장비는 천문학적인 고가품으로 몇몇 외국 기업만이 제조 공급을 독점하고 있으며, 아무리 고가의 장비를 사용하더라도 물리 광학 법칙의 제약으로 10나노급 이하의 반도체 패턴형성이 불가능하다는 노광공정의 대안으로써 나노임프린트 기술은 이러한 노광공정과 광학 장비를 사용하지 않고 인쇄공정을 사용함으로 저렴하면서도 수 나노급의 고해상도 패턴 형성을 가능하게 하였습니다. 이와 함께 나노임프린트 기술의 특허출원은 2002년까지 8건에 불과하였으나, 2003년 이후부터 2009년까지는 총 482건으로 특허출원이 지속적으로 증가하고 있는 것으로 나타났습니다. 나노임프린트 해당기술의 출원비율을 국가별로 보면, 미국 24%, 일본 21%, 우리나라는 절반 이상인 52%를 차지하고 있습니다. 특히, 우리나라는 2004년에야 본격적인 출원을 하고 있어 기반기술 선점에 대한 초기 노력이 경쟁국에 비해 다소 늦은 것으로 보여집니다. 출원인별로 살펴보면, 대기업 45%, 중소기업 23%, 연구소 16%, 대학교 15% 순으로 대기업은 나노임프린트 기술을 적용한 반도체 소자 등 응용제품 구현에 관한 출원으로 이루어졌고, 중소기업과 연구소는 나노임프린트 장비와 관련된 특허출원이 많은 것으로 나타나 있습니다.