కాపర్(II) ఆక్సైడ్
కాపర్(II)ఆక్సైడ్ లేదా కుప్రిక్ ఆక్సైడ్ అనునది ఒక రసాయన సమ్మేళనపదార్థం. ఇది ఒక అకర్బన సంయోగపదార్థం.రాగిమరియు ఆక్సిజన్ మూలకపరమాణువుల సంయోగం వలన ఈ సంయోగపదార్థ ఏర్పడినది. ఈ సంయోగపదార్థం యొక్క రసాయనికసంకేత పదం CuO.కాపర్(II)ఆక్సైడ్ రెండు స్థిరత్వముఉన్న రూపాలలో లభించును., ఒకటి నల్లటి ఘనపదార్థం కాగా రెండవది Cu2O.టేనోరైట్ మరియు పారామేలకోనైట్ అనునవి ఈ సంయోగపదార్థం యొక్క ఖనిజాలు.ఈ సంయోగపదార్థం రాగి లోహాఖనిజాల త్రవ్వకంలో ఉత్పత్తిగా లభిస్తుంది. కాపర్(II)ఆక్సైడ్ పలు రాగిని కలిగిన ఉత్పత్తులకు మరియు చాలా రసాయన సంయోగపదార్థాల ఉత్పత్తికి పుర్వగామి(precursor)గా పనిచేయును.
సల్ఫ్యూరిక్ ఆమ్లం
చాంబరు ఆమ్లం మరియు టవర్ ఆమ్లాలు రెండు కూడా వేరువేరు గాఢత కల్గిన, లెడ్ చాంబరు ప్రాసెస్‌లో ఉత్పత్తి కావింపబడిన సల్ఫ్యూరిక్ ఆమ్లం.ఇందులో చాంబర్ ఆసిడ్ అనునది సీసపుగదిలో ఏర్పడినది( నైట్రోసిల్ సల్ఫ్యూరిక ఆమ్లంతో సంపర్కం లేకుండా ఉండుటకై<70%కల్గి ఉండును) కాగా, టవర్ ఆసిడ్ అనునది గ్లోవర్ టవర్ అడుగుభాగం నుండి సేకరిస్తారు. సల్ఫ్యూరిక్ ఆమ్లం అనార్ద్ర/నిర్జల సల్ఫర్ ట్రైఆక్సైడ్ తో చర్య వలన పైరోసల్ఫ్యూరిక్ ఆమ్లాన్ని(H2S2O7) ఏర్పరచును. పైరోసల్ఫ్యూరిక్ ఆమ్లాన్ని ఫ్యుమింగు సల్ఫ్యూరిక్ ఆమ్లం, డైసల్ఫ్యూరిక్ ఆమ్లం లేదా ఓలియం(oleum) అని కూడా పిలుస్తారు. ఓలియం యొక్క గాఢతను సల్ఫర్ ట్రైఆక్సైడ్ శాతంరూపంలో లేదా సల్ఫ్యూరిక ఆమ్లశాతంలోనూ వ్యక్తీకరిస్తారు. సాధారణ గాఢతలు 40% ఓలియం (109% H2SO4),65% ఒలియం114.6% H2SO4). శుద్ధమైన ఓలియం ద్రవీభవన ఉష్ణోగ్రత 36°C. శుద్ధ సల్ఫ్యూరిక్ ఆమ్లం బాష్ప వత్తిడి 25°C<0.001 మి.మీ/పాదరసం. 145.8°C వద్ద బాష్ప వత్తిడి 1మి.మీ/పాదరసంమట్టం. శుద్ధ ఆమ్లం చక్కని పారదర్శకద్రవం.