కాపర్(II) ఆక్సైడ్
కాపర్(II)ఆక్సైడ్ లేదా కుప్రిక్ ఆక్సైడ్ అనునది ఒక రసాయన సమ్మేళనపదార్థం. ఇది ఒక అకర్బన సంయోగపదార్థం.రాగిమరియు ఆక్సిజన్ మూలకపరమాణువుల సంయోగం వలన ఈ సంయోగపదార్థ ఏర్పడినది. ఈ సంయోగపదార్థం యొక్క రసాయనికసంకేత పదం CuO.కాపర్(II)ఆక్సైడ్ రెండు స్థిరత్వముఉన్న రూపాలలో లభించును., ఒకటి నల్లటి ఘనపదార్థం కాగా రెండవది Cu2O.టేనోరైట్ మరియు పారామేలకోనైట్ అనునవి ఈ సంయోగపదార్థం యొక్క ఖనిజాలు.ఈ సంయోగపదార్థం రాగి లోహాఖనిజాల త్రవ్వకంలో ఉత్పత్తిగా లభిస్తుంది. కాపర్(II)ఆక్సైడ్ పలు రాగిని కలిగిన ఉత్పత్తులకు మరియు చాలా రసాయన సంయోగపదార్థాల ఉత్పత్తికి పుర్వగామి(precursor)గా పనిచేయును.
హైడ్రోఫ్లోరిక్ ఆమ్లం
హైడ్రో ఫ్లోరిక్ ఆమ్లం అనునది హైడ్రో ఫ్లోరైడ్ (HF) అను రసాయన సమ్మేళన పదార్థాన్ని (వాయువు) నీటిలో కరగించడం వలన ఏర్పడిన ద్రవఆమ్లం.ఇది ఒక ఖనిజ ఆమ్లం.హైడ్రోఫ్లోరిక్ ఆమ్లం ఇంచు మించు అన్ని ఫ్లోరిన్ సమ్మేళనపదార్థాల తయారికి పూర్వగామి (precursor) గా పనిచేయును.మూలక ఫ్లోరిన్‌ను తయారు చేయుటకు కూడా దీనిని ఉపయోగిస్తారు.
హైడ్రోఫ్లోరిక్ ఆమ్లం రంగులేని ద్రవం.మరియు వస్తువులను క్షయించు/తినివేయు గుణమున్నది.పలు రసాయన పదార్థాలను ముఖ్యంగా ఆక్సైడులను కరిగించు స్వభావమున్న రసాయన ఖనిజ ఆమ్లంఇది.గాజును తినివేయు దీని స్వభావాన్ని 17 శాతాబ్దిలో నే గుర్తించారు.1771లో కార్ల్ విల్హెం స్చీలె (Carl Wilhelm Scheele) అధిక ప్రమాణంలో ఉత్పత్తి చేసాడు.గాజు, టేఫ్లాన్ మరియు ఇతర రసాయన పదార్థాల మీద దాడి చేయు దీని యొక్క తీవ్ర రసాయన చర్యాశీలత వలన ఈ ఆమ్లాన్ని ప్లాస్టిక్ పాత్రలలో నిల్వ చేయుదురు.గాజు వస్తువులమీద నిక్షారణ (etching)